RTP 普克尔斯盒

RTP普克尔斯盒是采用硅酸氧钇铷（RbTiOPO₄） 晶体为核心材料的电光调制器。RTP晶体属于四方晶系，具有独特的非中心对称结构，使其展现出优异的电光性能。与传统的LiNbO3相比，RTP在高功率激光应用、低半波电压和抗光损伤能力方面表现尤为突出，是工业、医疗和科研领域高端激光系统的理想选择。

核心优势与特点

1. 卓越的抗光损伤阈值

• RTP晶体具有极高的激光损伤阈值，尤其适用于高平均功率和高脉冲能量的激光系统，其性能在可见光和近红外波段显著优于LiNbO3。

2. 相对较低的半波电压

• RTP晶体拥有较大的电光系数（γ₃₃），其半波电压通常仅为同等规格KDP晶体的1/3到1/2，这意味着可以使用更低的驱动电压实现相同的调制效果，降低了驱动电源的成本和设计复杂度。

3. 无热释电效应

• 与KTP、LiNbO3等晶体不同，RTP在快速变化的温度场下几乎不产生热释电电流。这一特性避免了热释电效应导致的光路扰动和驱动电路干扰，对于超快激光（飞秒/皮秒）系统和高稳定性实验至关重要。

4. 宽透光范围与高透过率

• 透光范围覆盖350 nm ~ 4500 nm，在可见光到中红外区域均有良好的透过率。

• 晶体本身无色，在可见光区的吸收率极低，非常适合用于多波长或白光系统。

5. 优异的化学与机械稳定性

• 不潮解，硬度高，物理化学性质稳定，确保了产品在苛刻环境下的长期可靠性。

主要应用领域

• 高功率激光调Q开关

• 用于Nd：YAG、Yb：YAG等高功率固体激光器，产生高能量巨脉冲，是激光清洗、焊接、冲击强化等工业应用的首选。

• 超快激光系统（飞秒/皮秒）

• 由于其无热释电效应的特性，RTP是超快激光放大器（如Regenerative Amplifier）中腔倒空和脉冲选择的最佳选择，能有效避免传统晶体带来的时序抖动和能量不稳定性。

• 光开关与光快门

• 用于需要高重复频率、高功率和长寿命的激光开关应用，如工业级3D打印、选择性激光烧结等。

• 电光偏转器与相位调制器

• 在激光雷达、光束扫描和相干光学系统中进行精确的光束控制。

• 科研与国防应用

• 广泛应用于高能物理、惯性约束核聚变、激光雷达以及红外对抗等高端领域。

我们深入理解RTP晶体的材料特性与高端应用需求。通过先进的晶体生长、光学加工和封装技术，我们提供的RTP普克尔斯盒在可靠性、一致性和极限性能上均处于行业领先水平。无论是标准产品还是完全定制化的解决方案，我们都能为您提供专业的技术支持。